【投资要点】
光刻胶是晶圆制造重要材料，行业壁垒高。光刻胶是晶圆制造重要材料，承担“图形转移”重任。光刻胶种类繁多，专用性强。光刻的线宽极限和精度决定了集成电路的集成度、可靠性和成本，因此摩尔定律推动光刻胶技术不断加速迭代。同时光刻胶行业具备技术、客户、设备及原料四大高壁垒。
光刻胶市场不断扩容，高端光刻胶亟需国产替代。随着下游半导体、LCD和PCB三大领域的高速发展，Reportlinker数据预计光刻胶市场亦将持续扩容，2022年有望超百亿。我国光刻胶产品以中低端为主，技术难度较高的半导体领域的KrF、ArF光刻胶则几乎全部依赖进口，被日美垄断，亟需国产替代。
以史为鉴产业链协同是关键，全产业链自主可控进步加速国产化。复盘日本光刻胶产业崛起关键因素为上下游协同发展，对比我国光刻胶产业全产业链自主可控不断突破：1）下游伴随半导体和LCD产业不断向国内转移，驱动配套光刻胶需求提升。2）中游政策不断利好，国内企业进入高端光刻胶量产和规模出货阶段，国产化加速。3）上游原料和设备虽然被外企垄断，但国内部分企业积极投入研发，已有所突破，全产业链自
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